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                精密表面科學(xué)設(shè)備和分析設(shè)備 高性能電子和離子光學(xué)儀器
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                標(biāo)簽: EELS

                ELS5000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 不受嚴(yán)格的偶極選擇規(guī)則的限制 振動(dòng)光譜分析 雙通單色儀和單通分析儀

                ELS5000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 不受嚴(yán)格的偶極選擇規(guī)則的限制 振動(dòng)光譜分析 雙通單色儀和單通分析儀

                2025年4月30日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                電子分析儀和光譜儀
                LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動(dòng)頻率 吸附物的分子結(jié)構(gòu) 表面鍵合強(qiáng)度 吸附幾何 表面化學(xué)

                LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動(dòng)頻率 吸附物的分子結(jié)構(gòu) 表面鍵合強(qiáng)度 吸附幾何 表面化學(xué)

                2025年4月30日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                電子分析儀和光譜儀

                關(guān)于我們

                LK Technologies設(shè)計(jì)和制造精密表面科學(xué)設(shè)備和表面分析設(shè)備,包括完整的系統(tǒng)。 自 1986 年以來(lái),LK 一直為全球領(lǐng)先的學(xué)術(shù)和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室提供堅(jiān)固耐用的高性能電子和離子光譜學(xué)儀器以及經(jīng)濟(jì)高效的系統(tǒng)解決方案。

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                AES EELS ELS5000 ISS LEED LK2000 LK Technologies NGI3000 RDA-003G RDA-004P RHEED RVL2000 TDS TDS1000 TPD XPS 分析儀 XYZ 操控器 XY 移動(dòng)平臺(tái) 低能電子衍射系統(tǒng) 俄歇電子能譜 俄歇電子能譜(AES)測(cè)試 減速場(chǎng)分析(RFA) 半球分析儀 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 反射高能電子衍射系統(tǒng) 四軸樣品臺(tái) 多通道 HREELS 差分抽氣旋轉(zhuǎn)臺(tái) 旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)器 樣品溫度控制器 濺射蝕刻系統(tǒng) 熱脫附光譜儀 熱脫附系統(tǒng) 熱解吸光譜儀 直線驅(qū)動(dòng)器 離子槍 離子源 程序升溫脫附光譜儀 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) 表面科學(xué)分析 超高真空系統(tǒng) 超高真空腔體 集成鎖相放大器 高分辨率電子能量損失光譜儀 高性能低噪聲俄歇電子學(xué)模塊

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                • LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動(dòng)頻率 吸附物的分子結(jié)構(gòu) 表面鍵合強(qiáng)度 吸附幾何 表面化學(xué)
                • 離子源 NGI3000 濺射蝕刻系統(tǒng)、離子槍與控制電子設(shè)備 通過(guò)離子濺射進(jìn)行表面清洗 離子散射譜(ISS)光譜分析
                • LK Technologies RVL2000 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 低能電子衍射系統(tǒng) 高性能低噪聲俄歇電子學(xué)模塊,集成鎖相放大器 減速場(chǎng)分析(RFA)型俄歇電子能譜(AES)測(cè)試

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