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                  精密表面科學設備和分析設備 高性能電子和離子光學儀器
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                  電子分析儀和光譜儀 MINICMA™ 角度分辨電子能量分析儀 AES、UPS、XPS 高分辨率電子能量損失譜 ELS5000 HREELS LK2000 多通道電子能量分析儀 EA5000MCA

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                  2025年4月30日2025年4月30日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  電子分析儀和光譜儀
                  ELS5000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 不受嚴格的偶極選擇規(guī)則的限制 振動光譜分析 雙通單色儀和單通分析儀

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                  2025年4月30日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  電子分析儀和光譜儀
                  LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動頻率 吸附物的分子結構 表面鍵合強度 吸附幾何 表面化學

                  LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動頻率 吸附物的分子結構 表面鍵合強度 吸附幾何 表面化學

                  2025年4月30日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  電子分析儀和光譜儀
                  離子源 NGI3000 濺射蝕刻系統(tǒng)、離子槍與控制電子設備 通過離子濺射進行表面清洗 離子散射譜(ISS)光譜分析

                  離子源 NGI3000 濺射蝕刻系統(tǒng)、離子槍與控制電子設備 通過離子濺射進行表面清洗 離子散射譜(ISS)光譜分析

                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  離子源
                  LK Technologies RVL2000 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 低能電子衍射系統(tǒng) 高性能低噪聲俄歇電子學模塊,集成鎖相放大器 減速場分析(RFA)型俄歇電子能譜(AES)測試

                  LK Technologies RVL2000 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 低能電子衍射系統(tǒng) 高性能低噪聲俄歇電子學模塊,集成鎖相放大器 減速場分析(RFA)型俄歇電子能譜(AES)測試

                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  LEED & RHEED
                  低能電子衍射(LEED)系統(tǒng)、RVL2000、兼容俄歇電子能譜(AES)、反射高能電子衍射(RHEED)系統(tǒng)、RDA-003G、RDA-004P

                  低能電子衍射(LEED)系統(tǒng)、RVL2000、兼容俄歇電子能譜(AES)、反射高能電子衍射(RHEED)系統(tǒng)、RDA-003G、RDA-004P

                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  LEED & RHEED
                  熱脫附光譜儀(TDS/TPD)TDS1000 系統(tǒng) 程序升溫脫附光譜儀 表面科學分析

                  熱脫附光譜儀(TDS/TPD)TDS1000 系統(tǒng) 程序升溫脫附光譜儀 表面科學分析

                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  熱脫附光譜儀 TDS/TDP
                  表面科學用超高真空系統(tǒng) XPS 分析儀 半球分析儀 AES、ISS、多通道 HREELS 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) TDS1000 熱脫附系統(tǒng)

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                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  UHV系統(tǒng)
                  超高真空(UHV)腔體 旋轉運動驅動器 差分抽氣旋轉臺 直線驅動器 XY 移動平臺 XYZ 操控器 四軸樣品臺 樣品溫度控制器

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                  2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                  UHV組件

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                  LK Technologies設計和制造精密表面科學設備和表面分析設備,包括完整的系統(tǒng)。 自 1986 年以來,LK 一直為全球領先的學術和工業(yè)實驗室提供堅固耐用的高性能電子和離子光譜學儀器以及經(jīng)濟高效的系統(tǒng)解決方案。

                  熱門產(chǎn)品

                  AES EELS ELS5000 ISS LEED LK2000 LK Technologies NGI3000 RDA-003G RDA-004P RHEED RVL2000 TDS TDS1000 TPD XPS 分析儀 XYZ 操控器 XY 移動平臺 低能電子衍射系統(tǒng) 俄歇電子能譜 俄歇電子能譜(AES)測試 減速場分析(RFA) 半球分析儀 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 反射高能電子衍射系統(tǒng) 四軸樣品臺 多通道 HREELS 差分抽氣旋轉臺 旋轉運動驅動器 樣品溫度控制器 濺射蝕刻系統(tǒng) 熱脫附光譜儀 熱脫附系統(tǒng) 熱解吸光譜儀 直線驅動器 離子槍 離子源 程序升溫脫附光譜儀 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) 表面科學分析 超高真空系統(tǒng) 超高真空腔體 集成鎖相放大器 高分辨率電子能量損失光譜儀 高性能低噪聲俄歇電子學模塊

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