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      標(biāo)簽: 離子散射譜光譜分析

      離子源 NGI3000 濺射蝕刻系統(tǒng)、離子槍與控制電子設(shè)備 通過離子濺射進(jìn)行表面清洗 離子散射譜(ISS)光譜分析

      離子源 NGI3000 濺射蝕刻系統(tǒng)、離子槍與控制電子設(shè)備 通過離子濺射進(jìn)行表面清洗 離子散射譜(ISS)光譜分析

      2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
      離子源

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      LK Technologies設(shè)計(jì)和制造精密表面科學(xué)設(shè)備和表面分析設(shè)備,包括完整的系統(tǒng)。 自 1986 年以來,LK 一直為全球領(lǐng)先的學(xué)術(shù)和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室提供堅(jiān)固耐用的高性能電子和離子光譜學(xué)儀器以及經(jīng)濟(jì)高效的系統(tǒng)解決方案。

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