MINICMA™
新款!現(xiàn)在配備同軸電子槍!
LK Technologies推出的原始緊湊型CMA,具有無與倫比的特點(diǎn)。用于一般電子能量分析,包括Auger電子能譜(AES)和光電子能譜(UPS、XPS)。
安裝在2.75″(70 mm)法蘭上,增加了4 mm的工作距離
完全可回縮,具有精確的線性驅(qū)動(dòng)
采用先進(jìn)的雙通光學(xué)系統(tǒng),能量分辨率優(yōu)于0.8%
提供模擬和脈沖計(jì)數(shù)模式的電子學(xué)
適合用于傳統(tǒng)笨重分析儀無法接觸的實(shí)驗(yàn)
可與RVL2000 LEED光學(xué)系統(tǒng)結(jié)合,使用我們的雙LEED/CMA控制器,形成一個(gè)低成本、高性能的LEED/Auger系統(tǒng)
ELS5000
世界領(lǐng)先的HREELS性能,分辨率和信號(hào)電平
現(xiàn)在結(jié)合我們的多通道分析儀選項(xiàng)(EA5000MCA),實(shí)現(xiàn)無與倫比的數(shù)據(jù)采集速度。用于研究表面分子振動(dòng)、表面聲子和等離激元,以及電子能級(jí)和能帶寬度。
超高分辨率:0.5 meV FWHM
在1.0 meV分辨率(FWHM)下,保證探測(cè)器電流大于或等于10 pA
采用新的靜電偏轉(zhuǎn)器,控制角度畸變
低噪聲數(shù)字控制電子學(xué),配有菜單驅(qū)動(dòng)的軟件
用戶可選擇的掃描范圍,最高可達(dá)50 eV,用于振動(dòng)光電子/電子應(yīng)用
LK2000
LK2000 HREELS儀器在全球工業(yè)和學(xué)術(shù)實(shí)驗(yàn)室中得到了廣泛應(yīng)用。它已成功應(yīng)用于各種問題,包括金屬上的烴類化學(xué)吸附(催化作用)、硅晶片清潔技術(shù)分析、表面等離激元、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等。
分辨率達(dá)到3 meV(FWHM)及以下
提供可旋轉(zhuǎn)和固定光學(xué)模型
集成雙重磁屏蔽,便于“螺栓安裝”
EA5000MCA
多通道電子能量分析儀
我們最新的分析儀采用位置敏感探測(cè)器,以快速采集數(shù)據(jù),同時(shí)保持卓越的分辨率,并且分析儀完全可旋轉(zhuǎn)。還提供帶傳輸透鏡和長(zhǎng)工作距離的固定光學(xué)版本。
寬間隙圓柱形分析儀,具有出色的邊緣場(chǎng)修正
多通道板,能夠在800個(gè)通道上同時(shí)采集數(shù)據(jù)
完整光譜在幾秒鐘到幾分鐘內(nèi)采集
在1 meV的分辨率下保持高儀器性能
可與ELS5000單色儀結(jié)合,提供高性能HREELS
分析儀可 retrofitted 到ELS5000光譜儀中