電子分析儀和光譜儀 MINICMA™ 角度分辨電子能量分析儀 AES、UPS、XPS 高分辨率電子能量損失譜 ELS5000 HREELS LK2000 多通道電子能量分析儀 EA5000MCA

MINICMA™

新款!現(xiàn)在配備同軸電子槍!
LK Technologies推出的原始緊湊型CMA,具有無與倫比的特點(diǎn)。用于一般電子能量分析,包括Auger電子能譜(AES)和光電子能譜(UPSXPS)。

  • 安裝在2.75″(70 mm)法蘭上,增加了4 mm的工作距離

  • 完全可回縮,具有精確的線性驅(qū)動(dòng)

  • 采用先進(jìn)的雙通光學(xué)系統(tǒng),能量分辨率優(yōu)于0.8%

  • 提供模擬和脈沖計(jì)數(shù)模式的電子學(xué)

  • 適合用于傳統(tǒng)笨重分析儀無法接觸的實(shí)驗(yàn)

  • 可與RVL2000 LEED光學(xué)系統(tǒng)結(jié)合,使用我們的雙LEED/CMA控制器,形成一個(gè)低成本、高性能的LEED/Auger系統(tǒng)


ELS5000

世界領(lǐng)先的HREELS性能,分辨率和信號(hào)電平
現(xiàn)在結(jié)合我們的多通道分析儀選項(xiàng)(EA5000MCA),實(shí)現(xiàn)無與倫比的數(shù)據(jù)采集速度。用于研究表面分子振動(dòng)、表面聲子和等離激元,以及電子能級(jí)和能帶寬度。

  • 超高分辨率:0.5 meV FWHM

  • 在1.0 meV分辨率(FWHM)下,保證探測(cè)器電流大于或等于10 pA

  • 采用新的靜電偏轉(zhuǎn)器,控制角度畸變

  • 低噪聲數(shù)字控制電子學(xué),配有菜單驅(qū)動(dòng)的軟件

  • 用戶可選擇的掃描范圍,最高可達(dá)50 eV,用于振動(dòng)光電子/電子應(yīng)用


LK2000

LK2000 HREELS儀器在全球工業(yè)和學(xué)術(shù)實(shí)驗(yàn)室中得到了廣泛應(yīng)用。它已成功應(yīng)用于各種問題,包括金屬上的烴類化學(xué)吸附(催化作用)、硅晶片清潔技術(shù)分析、表面等離激元、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等。

  • 分辨率達(dá)到3 meV(FWHM)及以下

  • 提供可旋轉(zhuǎn)和固定光學(xué)模型

  • 集成雙重磁屏蔽,便于“螺栓安裝”


EA5000MCA

多通道電子能量分析儀
我們最新的分析儀采用位置敏感探測(cè)器,以快速采集數(shù)據(jù),同時(shí)保持卓越的分辨率,并且分析儀完全可旋轉(zhuǎn)。還提供帶傳輸透鏡和長(zhǎng)工作距離的固定光學(xué)版本。

  • 寬間隙圓柱形分析儀,具有出色的邊緣場(chǎng)修正

  • 多通道板,能夠在800個(gè)通道上同時(shí)采集數(shù)據(jù)

  • 完整光譜在幾秒鐘到幾分鐘內(nèi)采集

  • 在1 meV的分辨率下保持高儀器性能

  • 可與ELS5000單色儀結(jié)合,提供高性能HREELS

  • 分析儀可 retrofitted 到ELS5000光譜儀中


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