等離子體的性質在 40 kHz、400 KHz 微波和 13.56 MHz 射頻下存在許多差異。
但是，在某些應用中可以使用所有這些頻率。
一般來說，在低頻下，電子和離子都在等離子體介質中發生位移。離子具有負電荷或正電荷，離子的質量遠高于電子的質量。
- 在低頻下，有充足的機會移動離子和電子。
- 在更高的頻率下，離子移動的機會就越少。
- 允許等離子體密度在高頻下增加。
- 射頻頻率下的等離子體密度通常高于低頻 （LF） 的等離子體密度。
- 此外，由于質量高的離子的加速，樣品和產品表面的濺射現象或腔室壁引起的污染在 LF 頻率中較高。導致更多的熱負荷傳遞到樣品上，因此 LF 加速顆粒以高速率碰撞。
高頻是在產品或樣品表面進行化學相互作用的最佳選擇。由于產生離子和自由基的電子，產生等離子體。
在這種情況下，離子的運動性很小，它們沒有破壞性影響，并且在這些條件下，產品或樣品表面有大量的離子和自由基，它們準備進行化學反應。
此外，隨著頻率的增加，內部偏置等其他參數也會降低。
隨著頻率的增加（朝向微波），等離子體從體積均勻等離子體變為表面等離子體（由于穿透深度限制）。
和其他差異…
關鍵領域：
- 一個或兩個氣體輸入選項氬氣、氧氣、氮氣、用于氫氣裂解的合成氣體。
- 流量計或質量流量控制器
- 三種頻率可供選擇。（如果在構建階段規劃，RF 可以升級）
- 加熱至 350 °C 的樣品
應用
可選的蒸汽輸送入口可以將用途擴展到液體前驅體，并且耐
腐蝕工作增加了應用范圍，涵蓋材料處理，包括：
- 等離子清洗? 等離子體表面活化以提高粘附力
? 功能性等離子涂層
? 等離子體蝕刻
? PDMS 和微流體設備
? PEEK 和其他工程聚合物
?聚四氟乙烯
?五金
?陶瓷
? 玻璃和光學設備
基本規格
M2V03 規格：
| 參數 | Value – 選項 |
| 室 |
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| 等離子發生器 |
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| 輸入氣體 |
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| 控制和監控 |
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| 血漿生成 |
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| 真空泵 |
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| 真空計 | 耐腐蝕皮拉尼真空計 |
| 箱 |
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| 主輸入功率 |
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