DST1-300 具有最小的臺式占地面積之一，可為高分辨率 SEM 和 TEM 樣品制備提供直流和射頻濺射
DST1-300 系列提供
以下版本可滿足大多數實驗室應用。
DST1-300?系列
單磁控管、DC、RF、樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉。
還提供 4 英寸磁控管選項。
DST1-300 潔凈真空室
DST1-L 至 DST3：真空室為圓柱形耐熱玻璃，外徑為 300 mm，高度為 200 mm （DST1-4） / 外徑為 170 mm x 高度為 140 mm
（DST1-2）。配有一個內部安裝的渦輪分子泵，由隔膜泵提供支持，該隔膜泵可引入清潔真空，而不會產生普通擴散泵通常存在的油污染。
特征
- 高真空渦輪分子泵。
- 隔膜前級泵。
- 全系列真空計。
- 高精度石英晶體厚度監測器。
- 直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入
- 用戶友好型軟件，可通過網絡進行更新。
- 控制涂層速率以獲得更精細的晶粒結構。
- 手動定時和厚度濺射。
- 能夠記錄和繪制涂層參數圖表。
- 自動或半自動控制。
- 配備電子快門。
- 易于更換的樣品臺（旋轉臺為標準）。
- 兩年保修。
規格
- 極限真空度：小于 2×10-5 托。
- 控制濺射速率以獲得更細的晶粒結構。
- 自動控制濺射功率，不受壓力影響。
- 精密質量流量計 （MFC） 用于精細控制真空壓力
- 能夠記錄和繪制涂層參數圖。
- 通過 USB 端口將曲線和沉積工藝數據傳輸到 PC。
- 實用程序：220V- 50HZ- 16A。
- 運輸重量 （DST1-3）：46 千克
應用DST1-L
DST1-L， Turbo – 泵浦臺式濺射鍍膜機：
DST1-L 型大腔室單磁控管水冷臺式濺射鍍膜機是 Vac Coat 的大型鍍膜系統，具有單獨的控制架，能夠鍍膜半導體、電介質和金屬（氧化和非氧化）。在快速循環時間內形成具有細晶粒尺寸的均勻薄膜。配備單個磁控管陰極，陰極直徑為 2-4 英寸，具體取決于要求，可提供射頻、樣品加熱升級
應用DST2
DST2， Turbo – 泵浦臺式雙濺射鍍膜機：
大腔室 Duel 磁控管陰極，水冷式，非常適合鍍膜直徑達 15 cm 的大型試樣，或類似直徑的多個較小試樣。無限的濺射時間使其適用于厚層的沉積。該系統配備 800 W 直流電源、300 W 射頻電源（可選）和匹配盒。該系統可以在不同的表面上沉積各種材料，用于薄膜應用，如微納米電子和SEM樣品制備
應用DST3
DST3： Turbo – 泵浦臺式三濺射鍍膜機：
大腔室 DST3 3 2“ 磁控管陰極，水冷式，非常適合鍍膜直徑達 15 cm 的大型試樣，或類似直徑的多個較小試樣。無限的濺射時間使其適用于厚層的沉積。該系統配備 800 W 直流電源、300 W 射頻電源（可選）和匹配盒。該系統可以在不同的表面上沉積各種材料，用于薄膜應用，如微納米電子和SEM樣品制備
選項和附件
DST 型臺式濺射鍍膜機具有流動選項和附件：
- 行星樣品旋轉
- 纖維碳蒸發
- 線材蒸發
- 船用蒸發
- 襯底直流偏置電壓 （DST1-3）。
- 基板加熱
- 用于氧化物濺射的 RF
- 基板加熱器 500c （DST1-4）。
- 300W 射頻濺射 （DST1-4）。
- 石英晶體。
- 備用玻璃。
- 濺射靶材
