脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。
觸摸屏控制
脈沖激光沉積系統 PLD-T 配備 7 英寸彩色觸摸屏和全自動控制和數據輸入，即使是沒有經驗的用戶也可以作。真空、電流和沉積信息可以在觸摸屏上以數字數據或曲線的形式進行觀察。最近 300 種涂層的信息可以保存在歷史頁面中。
目標縱器
PLD 配備了一個多目標機械手，其中包括三個直徑為 2 厘米的目標。目標為標準尺寸，我們所有的目標縱器都是電動的，包括目標旋轉。
PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）
脈沖激光沉積系統可配備三個獨立的熱阻熱蒸發源。蒸發源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節，滿足客戶要求。
特征
- 轉速可調的目標機械手
- 3 個熱源和特殊的饋入件
- 用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）
- 直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入
- 等離子清洗
- 用戶友好型軟件，可通過網絡更新
- 配備旋轉樣品架
- 配備電子快門
- 配備機動船選擇
- 500 °C 基板加熱器
- 兩年保修
規格
- 高真空渦輪分子泵
- 隔膜前級泵
- 全系列真空測量儀
- 5 KW 大電流電源
- 精密質量流量計 （MFC）
- 能夠記錄和繪制涂層參數圖表
- 通過 USB 端口將曲線和沉積過程數據傳輸到 PC
- 實用程序：220V-240V，50/60HZ，16A
- 盒子尺寸：50 厘米 x 60 厘米寬 x 47 厘米深
- 裝運重量： 70 公斤
選件和附件
PLD-T 具有以下選件和附件：
- 熱蒸發源（舟/籃/盤管）
- 500 °C 基板加熱器
- 蒸發源材料
- 石英晶體傳感器
- 密封墊片
