英國VacTechniche,DST1-300 渦輪泵浦濺射鍍膜機(jī)

DST1-300 具有最小的臺(tái)式占地面積之一，可為高分辨率 SEM 和 TEM 樣品制備提供直流和射頻濺射

DST1-300 系列提供

以下版本可滿足大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

DST1-300?系列

單磁控管、DC、RF、樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)。

DST2-A?系列

兩個(gè)磁控管傾斜的中心焦點(diǎn)、DC、RF 樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)。

DST2-TA?系列

兩個(gè)磁控管傾斜的中央焦點(diǎn)、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)、碳、金屬絲或舟的單一熱蒸發(fā)設(shè)施。

DST1-S?系列

兩個(gè)磁控管直、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)、碳、線或舟的單個(gè)熱蒸發(fā)設(shè)施。

DST2-TS?系列

兩個(gè)磁控管直、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)、碳、線或舟的單個(gè)熱蒸發(fā)設(shè)施。

DST3-A?系列

三個(gè)磁控管傾斜的中央焦點(diǎn)、DC、RF 樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)。

DST3-TA?系列

三磁控管傾斜中心焦點(diǎn)、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)、碳、金屬絲或舟的單一熱蒸發(fā)設(shè)施。

DST3-S?系列

三個(gè)磁控管直、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)。

DST3-TS?系列

三個(gè)磁控管直、直流、射頻樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉(zhuǎn)、碳、線或舟的單次熱蒸發(fā)

還提供 4 英寸磁控管選項(xiàng)。

DST1-300 潔凈真空室

DST1-L 至 DST3：真空室為圓柱形耐熱玻璃，外徑為 300 mm，高度為 200 mm （DST1-4） / 外徑為 170 mm x 高度為 140 mm
（DST1-2）。配有一個(gè)內(nèi)部安裝的渦輪分子泵，由隔膜泵提供支持，該隔膜泵可引入清潔真空，而不會(huì)產(chǎn)生普通擴(kuò)散泵通常存在的油污染。

特征

  • 高真空渦輪分子泵。
  • 隔膜前級(jí)泵。
  • 全系列真空計(jì)。
  • 高精度石英晶體厚度監(jiān)測器。
  • 直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入
  • 用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行更新。
  • 控制涂層速率以獲得更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)。
  • 手動(dòng)定時(shí)和厚度濺射。
  • 能夠記錄和繪制涂層參數(shù)圖表。
  • 自動(dòng)或半自動(dòng)控制。
  • 配備電子快門。
  • 易于更換的樣品臺(tái)（旋轉(zhuǎn)臺(tái)為標(biāo)準(zhǔn)）。
  • 兩年保修。

規(guī)格

  • 極限真空度：小于 2×10-5 托。
  • 控制濺射速率以獲得更細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)。
  • 自動(dòng)控制濺射功率，不受壓力影響。
  • 精密質(zhì)量流量計(jì) （MFC） 用于精細(xì)控制真空壓力
  • 能夠記錄和繪制涂層參數(shù)圖。
  • 通過 USB 端口將曲線和沉積工藝數(shù)據(jù)傳輸?shù)?PC。
  • 實(shí)用程序：220V- 50HZ- 16A。
  • 運(yùn)輸重量 （DST1-3）：46 千克

應(yīng)用DST1-L

DST1-L， Turbo – 泵浦臺(tái)式濺射鍍膜機(jī)：

DST1-L 型大腔室單磁控管水冷臺(tái)式濺射鍍膜機(jī)是 Vac Coat 的大型鍍膜系統(tǒng)，具有單獨(dú)的控制架，能夠鍍膜半導(dǎo)體、電介質(zhì)和金屬（氧化和非氧化）。在快速循環(huán)時(shí)間內(nèi)形成具有細(xì)晶粒尺寸的均勻薄膜。配備單個(gè)磁控管陰極，陰極直徑為 2-4 英寸，具體取決于要求，可提供射頻、樣品加熱升級(jí)

應(yīng)用DST2

DST2， Turbo – 泵浦臺(tái)式雙濺射鍍膜機(jī)：

大腔室 Duel 磁控管陰極，水冷式，非常適合鍍膜直徑達(dá) 15 cm 的大型試樣，或類似直徑的多個(gè)較小試樣。無限的濺射時(shí)間使其適用于厚層的沉積。該系統(tǒng)配備 800 W 直流電源、300 W 射頻電源（可選）和匹配盒。該系統(tǒng)可以在不同的表面上沉積各種材料，用于薄膜應(yīng)用，如微納米電子和SEM樣品制備

應(yīng)用DST3

DST3： Turbo – 泵浦臺(tái)式三濺射鍍膜機(jī)：

大腔室 DST3 3 2“ 磁控管陰極，水冷式，非常適合鍍膜直徑達(dá) 15 cm 的大型試樣，或類似直徑的多個(gè)較小試樣。無限的濺射時(shí)間使其適用于厚層的沉積。該系統(tǒng)配備 800 W 直流電源、300 W 射頻電源（可選）和匹配盒。該系統(tǒng)可以在不同的表面上沉積各種材料，用于薄膜應(yīng)用，如微納米電子和SEM樣品制備

選項(xiàng)和附件

DST 型臺(tái)式濺射鍍膜機(jī)具有流動(dòng)選項(xiàng)和附件：

  • 行星樣品旋轉(zhuǎn)
  • 纖維碳蒸發(fā)
  • 線材蒸發(fā)
  • 船用蒸發(fā)
  • 襯底直流偏置電壓 （DST1-3）。
  • 基板加熱
  • 用于氧化物濺射的 RF
  • 基板加熱器 500c （DST1-4）。
  • 300W 射頻濺射 （DST1-4）。
  • 石英晶體。
  • 備用玻璃。
  • 濺射靶材

Related posts