英國VacTechniche,反應(yīng)離子刻蝕：RIE

反應(yīng)離子刻蝕

（RIE）VacTechniche 的設(shè)備

反應(yīng)離子刻蝕 （RIE） 是一種先進(jìn)的基于等離子體的刻蝕技術(shù)，用于微納加工，以實(shí)現(xiàn)高精度、各向異性的材料去除。VacTechniche 的 RIE 系統(tǒng)專為半導(dǎo)體、電介質(zhì)和聚合物材料的高性能蝕刻而設(shè)計(jì)，使其成為微電子、MEMS 和納米技術(shù)等行業(yè)的理想選擇。

MRIE03VT-a 桌面 RIE 系統(tǒng)，由 “Vac Techniche Ltd” 制造，具有以下規(guī)格組合，是一種獨(dú)特的產(chǎn)品。

腔室尺寸：
注射氣體數(shù)量：4 MFC，可在不同的工藝設(shè)計(jì)中發(fā)揮更多功能。
Ar：100 SCCM
N2：50 SCCM
O2：100 SCCM
SF6：50SCCM。

更多信息

  • 具有多達(dá) 40 個(gè)不同序列的工藝設(shè)計(jì)能力。
  • 能夠保存 5 個(gè)不同的 Processes 參數(shù)。
  • 高達(dá) 300W，13.56MHz 射頻等離子體源，具有快速穩(wěn)定的自動(dòng)阻抗匹配。
  • 設(shè)計(jì)緊湊，尺寸小。
  • 系統(tǒng)外部尺寸：

    腔室內(nèi)部尺寸。

  • 樣品輸入和最大尺寸

應(yīng)用

🔹 半導(dǎo)體器件制造
🔹 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造
🔹 光子學(xué)和光電元件加工
🔹 介電材料結(jié)構(gòu)（例如 SiO?、Si?N?）
🔹 聚合物和有機(jī)材料圖案化

反應(yīng)離子刻蝕：VacTechniche RIE 系統(tǒng)的 RIE 主要特點(diǎn)

✔?高精度和各向異性蝕刻?– 確保垂直側(cè)壁和最小的底切，這對于先進(jìn)的半導(dǎo)體應(yīng)用至關(guān)重要。
✔?優(yōu)化的等離子體控制?– 通過對蝕刻速率和選擇性的精細(xì)控制，提供均勻的蝕刻。
✔?多種工藝氣體?– 與 CF?、SF?、O? 和其他反應(yīng)氣體兼容，用于定制蝕刻解決方案。
✔?高級(jí)流程監(jiān)控?– 具有實(shí)時(shí)端點(diǎn)檢測和自動(dòng)化流程控制功能。
✔?可定制的腔室設(shè)計(jì)?– 支持各種晶圓尺寸和材料，增強(qiáng)了不同研發(fā)和生產(chǎn)需求的靈活性。

憑借對創(chuàng)新和質(zhì)量的堅(jiān)定承諾，VacTechniche 為最苛刻的應(yīng)用提供量身定制的尖端 RIE 解決方案。我們的系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)可靠性、可重復(fù)性和工藝靈活性，確保為研究和工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)提供卓越的結(jié)果。


Related posts