UniversityWafer,氟化鋇晶圓,氟化鋇(BaF?)基片

UniversityWafer,氟化鋇晶圓,氟化鋇(BaF?)基片,光學(xué)結(jié)構(gòu)專用,光電子器件,薄膜外延,輻射探測(cè),微電子,立方螢石結(jié)構(gòu),寬波段透明,寬禁帶

氟化鋇(BaF?)基片——光學(xué)結(jié)構(gòu)專用

應(yīng)用物理學(xué)博士生詢價(jià)

  • 需求:1英寸及2英寸BaF?晶圓(雙面拋光)
    • 數(shù)量:5片
    • 厚度:200-500微米
    • 關(guān)鍵指標(biāo):3-10微米波段高透光性(參考編號(hào)#105906)

氟化鋇基片特性

  1. 晶體結(jié)構(gòu):立方螢石結(jié)構(gòu)
  2. 光學(xué)性能
    • 寬波段透明(150nm-12μm,覆蓋紫外至紅外)
    • 低折射率(~1.46,類熔融石英)
  3. 物理特性
    • 寬禁帶(~10-11eV)
    • 熔點(diǎn):~1360℃
    • 局限性:易潮解,機(jī)械硬度較低

半導(dǎo)體領(lǐng)域核心應(yīng)用

1. 光電子器件

  • 紫外/極紫外光學(xué)窗口
  • 紅外探測(cè)器襯底(如CdTe、PbTe外延生長(zhǎng))

2. 薄膜外延

  • 晶格匹配II-VI族半導(dǎo)體(光伏/光電探測(cè)器)

3. 輻射探測(cè)

  • 閃爍體探測(cè)器(高能輻射激發(fā)熒光)

4. 微電子

  • 高頻/高溫器件絕緣襯底

對(duì)比其他襯底優(yōu)勢(shì)

特性BaF?硅(Si)藍(lán)寶石(Al?O?)
透明波段紫外-紅外不透明紫外-近紅外
晶格適配匹配II-VI族需緩沖層需緩沖層
耐濕性優(yōu)優(yōu)

:特殊訂單可提供定制鍍膜服務(wù)(如增透膜)

 

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