Quantum qX3溫控比色皿支架風冷式 Peltier控制Horiba光譜儀島津光譜儀適用

Quantum qX3溫控比色皿支架風冷式 Peltier控制Horiba光譜儀島津光譜儀適用

qX3

qX3

用戶可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架帶有三個光學端口

產品概述qX3 是一款風冷、溫控比色皿支架,具有三個光學端口可用于熒光光譜或使用三窗口光束路徑進行的任何實驗

此標準型號具有鋁制底板,可提供無限的用戶可定制安裝選項。我們還提供與來自不同制造商的各種分光光度計兼容的安裝選項,或者立即聯系我們獲取定制安裝解決方案,以滿足您的實驗需求!查看下面的可用選項!

qX3 是我們風冷比色皿支架系列的一部分,非常適合 0 °C 至 110 °C 的溫度范圍,無需液體冷卻。不再需要將儀器拴在水桶、冷卻器或其他循環儲液器上,以設置和保持精確的樣品溫度

qX3 還能夠以穩定的重現速率攪拌樣品,并能夠在受控的氣體環境中充滿光學元件,同時在較低溫度下工作以保持光學清晰度。使用 qX3 在精確保持的溫度下觀察熒光光譜,或用于升溫,以觀察熒光如何隨溫度變化。

購買低溫選件,包括帶窗背心和液體冷卻功能,可在 0 °C 至 -35 °C 的范圍內輕松作 qX3。 購買擴展溫度選件,將作范圍延長至 110 °C 至 150 °C 以上,適用于所有高溫實驗。購買兩者以創建終極的無所不能的設備!

使用 TC 1 溫度控制器可以輕松作 qX3,包含在購買價格中。樣品溫度、攪拌速度和升溫速率可以使用前面板上的 TC 1 菜單控制按鈕手動控制,也可以使用 Quantum Northwest 的計算機控制軟件?T-App(可購買)進行控制。

產品特點三個光學端口
快速、精確的溫度控制
精確的步進電機驅動的磁力攪拌蓋,以提高溫度穩定性
用于安裝窗口或過濾器的螺紋插件 用于控制照明體積的光學狹縫支架 可選的擴展溫度范圍可用于極端溫度的窗口夾套用于低溫
工作的干燥氣體吹掃 用于樣品溫度的探頭輸入
NIST 可溯源溫度校準

技術規格

受控的比色皿數量: 1
典型用途: 熒光
標準比色皿尺寸(外部): 12.5 毫米 x 12.5 毫米
每個比色皿的光學端口: 3
光端口尺寸: 12 mm 高 x 10 mm 寬
比色皿 z 高度: 15 毫米
提供帶窗的背心: 是的
出廠設置溫度范圍: -40 °C 至 +110 °C
溫度范圍易于實現: -5 °C 至 +110 °C
低溫選項范圍: -35 °C 至 +110 °C
帶擴展溫度選項的范圍: -35 °C 至 +150 °C
溫度精度: ±0.02 攝氏度
接受熱敏電阻探頭: 探頭/QNW3
磁力攪拌電機型: 步 進
磁力攪拌速度范圍: 1-2500 轉/分
默認攪拌速度: 1200 轉/分
攪拌速度最佳性能: 60-1800 轉/分

基本套餐
qX3 – 溫控比色皿支架
TC 1 – 溫度控制器
NIST 可追溯的校準和性能數據
磁力攪拌棒、干氣管和電纜


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