Quantum qX2風冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265溫控池支架

Quantum qX2風冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265溫控池支架

qX2

qX2

用戶可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架,帶有兩個光學端口

Quantum qX2風冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265溫控池支架產品概述qX2 是一款風冷、溫控比色皿支架,帶有兩個光學端口,用于吸收光譜或使用 180° 光束路徑進行的任何實驗

此標準型號具有鋁制底板,可提供無限的用戶可定制安裝選項。我們還提供與來自不同制造商的各種分光光度計兼容的安裝選項,或者立即聯系我們獲取定制安裝解決方案,以滿足您的實驗需求!查看下面的可用選項!

qX2 是我們風冷式比色皿支架系列的一部分,非常適合 0 °C 至 110 °C 的溫度范圍,無需液體冷卻。強制空氣用于去除帕爾貼換熱器中的熱量。不再需要將儀器拴在水桶、冷卻器或其他循環儲液器上,以設置和保持精確的樣品溫度

qX2 還能夠以穩定的可重現速率攪拌樣品,并能夠在受控的氣體環境中淹沒光學元件,同時在較低溫度下工作以保持光學清晰度。使用 qX2 在精確保持的溫度下觀察吸光度光譜,或用于溫度斜坡,以觀察吸光度如何隨溫度變化。

購買低溫選件,包括帶窗背心和液體冷卻功能,可在 0 °C 至 -35 °C 的范圍內輕松作 qX2。 購買擴展溫度選件,將作范圍延長至 110 °C 至 150 °C 以上,適用于所有高溫實驗。購買兩者以創建終極的無所不能的設備!

使用 TC 1 溫度控制器作 qX2 很容易,包含在購買價格中。樣品溫度、攪拌速度和升溫速率可以使用前面板上的 TC 1 菜單控制按鈕手動控制,也可以使用 Quantum Northwest 的計算機控制軟件?T-App(可購買)進行控制。

Quantum qX2風冷式 Peltier 控制的比色皿支架PE265溫控池支架產品特點快速、精確的帕爾貼溫度控制
精確的步進電機驅動磁力攪拌
用于低溫工作的干燥氣體吹掃
用于提高溫度穩定性
的蓋子 用于安裝窗口或過濾器
的螺紋插件 可選的擴展溫度范圍
可用于極端溫度的
帶窗護套 用于控制照明體積
的光學狹縫支架 用于移除比色皿
的比色皿升降器用于樣品溫度
的探頭輸入 NIST 可追溯溫度校準

技術規格

受控的比色皿數量: 1
典型用途: 吸光度
標準比色皿尺寸(外部): 12.5 毫米 x 12.5 毫米
每個比色皿的光學端口: 2
光端口尺寸: 12 mm 高 x 10 mm 寬
比色皿 z 高度:15 毫米
提供帶窗的背心:是的
出廠設置溫度范圍:-40 °C 至 +110 °C
溫度范圍易于實現:-5 °C 至 +110 °C
低溫選項范圍: -35 °C 至 +110 °C
帶擴展溫度選項的范圍: -35 °C 至 +150 °C
溫度精度: ±0.02 攝氏度
接受熱敏電阻探頭: 探頭/QNW3
磁力攪拌電機型: 步 進
磁力攪拌速度范圍: 1-2500 轉/分
默認攪拌速度: 1200 轉/分
攪拌速度最佳性能: 60-1800 轉/分

基礎配置
qX2 – 溫控比色皿支架
TC 1 – 溫度控制器
NIST 可追溯的校準和性能數據
磁力攪拌棒、干氣管和電纜

qX2/8454

qX2/8453

qX2/8452

qX2/Cary60

qX2/Cary300

qX2/Cary5000

qX2/島津

qX2/UV1280 系列等


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