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            PREVAC離子束刻蝕,離子源
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            標簽: 沉積系統(tǒng)

            波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng) ,PLD 系統(tǒng),標準 PLD 系統(tǒng)

            波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng) ,PLD 系統(tǒng),標準 PLD 系統(tǒng)

            2024年10月12日
            沉積儀器
            波蘭 PREVAC,  沉積系統(tǒng), 磁控濺射系統(tǒng), 標準 MS 系統(tǒng)

            波蘭 PREVAC, 沉積系統(tǒng), 磁控濺射系統(tǒng), 標準 MS 系統(tǒng)

            2024年10月12日
            沉積儀器
            波蘭 PREVAC,  沉積系統(tǒng), 磁控濺射系統(tǒng) 032 PRIMS ,basic MS 系統(tǒng)

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            2024年10月12日
            沉積儀器
            PREVAC 沉積系統(tǒng) 旋涂機 金屬薄膜、聚合物涂層、有機薄膜 真空覆膜

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            2024年9月20日
            沉積儀器
            PREVAC 脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 表面科學和材料研究 ARPES、IBS、磁控濺射和 MBE 納米結構層

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            2024年9月20日
            沉積儀器
            PREVAC MBE系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 分子束外延 離子源 單晶的薄膜沉積 原子層沉積 真空鍍膜

            PREVAC MBE系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 分子束外延 離子源 單晶的薄膜沉積 原子層沉積 真空鍍膜

            2024年9月20日2024年9月20日
            沉積儀器
            PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) PRIMS 真空鍍膜 電子束蒸發(fā) 反應濺射

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            2024年9月20日
            沉積儀器

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