標準 PES 系統
用于 UHV 環境中光電子能譜實驗的分析系統，具有可控的樣品溫度。
獨立系統適用于分析各種納米材料。該系統包括一個分析室和一個負載鎖定室，用于輕松快速地加載基板。泵送系統與分析室的標準容積相結合，可將極限壓力降至 10-11mbar，具體取決于泵的配置。
特征
- 滿足?XPS / UPS / ARPES / AES /?EELS?/ ISS / IPES / LEIPS?技術領域大多數研究需求的標準解決方案
- 實驗程序的完全自動化?
- 垂直或水平樣品方向?
- 半球形能量分析儀 EA15 UHV?及設備?
- 高功率雙陽極?X 射線源，帶光柵 – AlKα & AgLα，帶電源
- 高功率雙陽極，非單色X射線源 –?AlKα和MgKα，帶電源
- 帶電源的?UV 源
- 帶電源的泛洪源
- 用于深度剖析或清潔的離子源
- 電動或手動?4-6 軸機械手，帶接收站能夠實現從LHe/LN 系列2可承受高達?1400°C?的高溫
- 不同的樣品架尺寸：從 10×10 mm 到 1 英寸
- 分析室直徑 ? 310 mm
- 極限壓力降至 10-11mbar，具體取決于泵的配置
- 泵系統（基于備用泵、TMP、離子泵和 TSP）
- 帶設備的真空計
- 樣品架的?Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統，從負載鎖到分析室
- Viewports – 觀察窗口
- Bakeout 系統?
- 系統的可調節剛性主機架?
- 帶電子單元的 19 英寸機柜
- 由?Spectrium 軟件和?PLC 單元完全控制的分析過程和設備
描述
分析室配有 UHV 標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括：
- 帶設備的半球形能量分析儀 /
- 帶電源的 X 射線雙陽極單色源，
- 帶電源的 X 射線雙陽極非單色源，
- 帶電源的 UV 單色光源，
- 帶電源的紫外線源，
- 帶電源的泛洪源，
- 帶電源的電子源，
- 帶電源的離子源，用于深度剖析或清潔，
- 帶電源的氣簇離子源，
- 樣品調節器具有較寬的溫度范圍（從 LHe/LN2高達 1400°C）、
- 泵組（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP，具有大面積LN2裹尸布）、
- 帶設備的真空計，
- 用于線性傳輸系統的入口，例如從負載鎖到分析室，
- 樣品架的 Load Lock 室，
- LEED 設備，
- IPES / LEIPS 設備，
- viewports – 觀察窗口，
- 殘余氣體分析儀。
最終的設計和功能取決于系統配置。?
泵送系統是不同類型泵的組合，例如前級真空泵、離子泵、渦輪泵或具有大面積 LN 的鈦升華泵2護罩，根據特定應用需求單獨選擇，以實現最佳泵送性能。?
如果需要，該系統的模塊化設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺組合和集成。?
Spectrium 分析控制軟件允許半球形能量分析儀和各種類型的源集成和完美協作，從而實現輕松的配方編寫、自動測量控制和廣泛的數據記錄。允許基于?Tango 開源設備集成新的附加組件。?
選項
- 帶電源的?UV 單色光源
- LEED?設備
- 帶設備的?IPES / LEIPS
- 帶電源的電子源
- 帶電源的氣體簇離子源
- 儲藏室
- 徑向分布室或傳輸隧道
- 真空手提箱（運輸箱），在負載鎖室
中帶端口 - 殘余氣體分析儀
- 高溫計?
技術
光電子能譜 （PES）?是一種實驗技術，也是電子能譜的主要變體。該方法基于光電現象和對光電子動能分布的分析。發射的能量是表面樣品受到電磁輻射激發的結果。?
PES 技術是最常用的表面測試和薄層檢查方法。它提供的信息包括：定量組成、原子鍵特性、層厚?；具^程（光效應）測量光子照射物質后產生的光電子發射。?
包括分析 PES 技術：?
- XPS?– X 射線光電子能譜?
- HAXPES?– 硬 X 射線光譜?
- UPS?– 紫外光電子能譜?
- ARPES?– 角度分辨光電子能譜?
其他技術：?
- IPES?– 逆光電子發光光譜?
- LEIPS?– 低能量逆光電子能譜?
- AES?– 俄歇電子能譜?
- EELS?– 電子能量損失譜?
- ISS?– 離子散射光譜?
