離子源 IS 40F1
緊湊、易于使用的萃取式離子源，具有電子束聚焦功能。它主要用于樣品表面清潔，但聚焦功能提供了更多可能性。例如：它允許在相同的樣品距離上覆蓋不同的樣品區(qū)域，或者即使無(wú)法使樣品源更靠近樣品，也可以使用離子源。該源產(chǎn)生 >200 μA/cm2（氬氣）的離子電流，具有高斯光束輪廓。離子槍插入長(zhǎng)度可根據(jù)具體要求進(jìn)行調(diào)整（143 mm – 386 mm，可根據(jù)要求提供其他長(zhǎng)度）。
技術(shù)數(shù)據(jù)
| 安裝法蘭 | DN 40CF （不可旋轉(zhuǎn)） |
| 能量范圍 | 0.12 keV – 5 keV |
| 電流密度 | > 200 μA/cm2（距離 30 mm） |
| 盾 | 銅、不銹鋼（用于反應(yīng)氣體） |
| 陰極類型 | 氧化釔涂層銥絲 |
| 插入長(zhǎng)度 | 最小 143 mm，其他可根據(jù)要求提供 外徑：最大 37 mm |
| FWHM （英語(yǔ)） | 取決于離子能量和工作距離 （例如，距離 60 mm 時(shí)為 1.4 mm，距離 150 mm 時(shí)為 3 mm） |
| 典型工作距離 | 30 – 250 毫米 |
| 烘烤溫度 | 最高 250°C |
| 工作壓力 | 10-5– 10-6毫巴 |
特征
- 光束聚焦功能 – 在 30 mm-150 mm 之間的所有樣品距離上，光束濃度可能達(dá)到 3 mm
- 較遠(yuǎn)距離處的高光束強(qiáng)度（由于聚焦功能）
- 使用惰性氣體 （Ar） 和反應(yīng)氣體 （O作2、 H2，使用壽命縮短的碳?xì)浠衔铮?/span>
- 高離子束流
- 使用壽命長(zhǎng)
- 高穩(wěn)定性
選項(xiàng)
- 氣體加注系統(tǒng)
- 定制插入長(zhǎng)度
- 線性偏移
