X 射線源 RS 40B1
高強度雙陽極 Al/Mg 源，針對 XPS 和高壓 XPS 實驗進行了優化。陽極、燈絲和光源外殼的設計保證了最大的 X 射線強度和陽極表面之間的極低串擾。專門配置的鼻錐允許最大限度地接觸樣品。標準源中使用的雙陽極允許分離發射兩種不同特征的 X 輻射發射線：Mg （1253 eV） 和 Al （1487 eV） – 可根據要求提供其他涂層材料。
技術數據
| 安裝法蘭 | DN 40CF （不可旋轉） |
| 陽極 | Al/Mg（可根據要求提供其他材料） |
| 權力 | 鋁 600 瓦 / 毫克 400 瓦 |
| 能量范圍 | 7 – 15 千伏 |
| 陰極電流 （I導管) | 最高 2.5 A |
| 發射電流范圍 （Ie) | 0 – 50 毫安 |
| 串擾 | < 0.35 % |
| 樣品時的磁場 | 低于 0.5 μT |
| 樣品溫度升高 | < 5 °C |
| 陰極類型 | 釷鎢 |
| 水冷 | 要求，壓力 3.5 – 5 bar（最大 6 bar），流量≥ 2.5 l/min.，Tmax = 30 °C |
| 插入長度 | 285 毫米;外徑： 35 毫米 |
| FWHM （英語） | 取決于工作距離（例如，距離 15 mm 時為 30 mm） |
| 典型工作距離 | 5 – 30 毫米（最佳 15 毫米） |
| 烘烤溫度 | 最高 250 °C |
| 工作壓力 | < 5 x 10-6毫巴 |
特征
- 高強度雙陽極 Al / Mg
- 特殊配置的鼻錐
- 極低的串擾
- 低磁場
- 氣密密封外殼
- 非常高效的水冷內殼，以減少作過程中對樣品的熱損傷
- 內置雙高壓保護以及密封外殼
- 能夠在 mbar 范圍內的高壓實驗中工作（可選）
- 能夠在水流受限的完全控制下工作。
選項
- HP 版本，最高 20 mbar
- 傾斜 50 – 100 mm 的線性偏移（適用于配備額外抽氣口的 HP X 射線源）
- 式 制冷機
