半球形能量分析儀 EA15
PREVAC EA15 半球形能量分析儀使用 150 mm 的平均半徑分析儀提供高分辨率的 PES 測(cè)量。分析儀包裹在由最多兩個(gè)平行的 mu 金屬板構(gòu)成的屏蔽層中,保證了低能和高能光電子的適當(dāng)分析條件。該分析儀總共配備 11 個(gè)狹縫,可以在最佳能量分辨率和最佳強(qiáng)度之間進(jìn)行選擇。根據(jù)給定的光電子能量,分析儀最多可設(shè)置9個(gè)預(yù)定義的PE,以滿足客戶的要求。
描述
PREVAC EA15 半球形能量分析儀
分析儀包裹在由最多兩個(gè)平行的 mu 金屬板構(gòu)成的屏蔽層中,保證了低能和高能光電子的適當(dāng)分析條件。
該分析儀總共配備 11 個(gè)狹縫,可以在最佳能量分辨率和最佳強(qiáng)度之間進(jìn)行選擇。根據(jù)給定的光電子能量,分析儀最多可設(shè)置 8 個(gè)預(yù)定義的 PE,以滿足客戶的要求。
套餐包括:
▪ EA15 150 mm 半球形能量分析儀,
▪?RUDI-EA2?高穩(wěn)定和低噪聲電子設(shè)備,
▪用于 Windows作系統(tǒng)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的?SPECTRIUM?采集和分析儀控制軟件,
▪計(jì)算機(jī)裝置。
技術(shù)數(shù)據(jù)
安裝法蘭 | 公稱直徑 100 CF |
烘烤溫度 | 最高 150 °C |
工作距離 | 43 毫米 |
分析器平均半徑 | 150 毫米 |
傳遞能源 XPS XPS/UPS?&?XPS/UPS/ARPES | 20、50、100、150、200 eV 1、2、5、10、20、50、100、150、200 eV |
能量分辨率 XPS XPS/UPS?&?XPS/UPS/ARPES | < 20 meV FWHM < 3 meV FWHM |
動(dòng)能范圍 | 0.5 – 3000 伏 |
采集模式 | 固定, 掃描 |
透射和角度鏡頭模式: ▫鏡頭接受角(透射模式) ▫ 鏡頭接收角(角度模式) |
+/- 15° +/- 3° +/- 10° |
IRIS 光圈 | 從 1 mm 到 32 mm |
完全由非磁性材料設(shè)計(jì) | |
無(wú)需拆卸分析儀即可更換檢測(cè)器 | |
分析儀上的饋入件標(biāo)有與電子元件相對(duì)應(yīng)的專用顏色,以防止分析儀安裝過(guò)程中出現(xiàn)錯(cuò)誤 | |
包括 ISS/AES 選件 |
探測(cè)器
MCP-CCD 探測(cè)器
- 40 mm 直徑雙 MCP 探測(cè)器
- 656 個(gè)能量通道可同時(shí)使用
- 494 個(gè)角度通道可同時(shí)提供
- 90 幀率 (fps)
7-MCD 探測(cè)器
DLD 檢測(cè)器
- 固定模式下的最大能量窗口:~17% 的通過(guò)能量
- 直徑為 56 mm 的檢測(cè)器,帶有 7 個(gè)通道加速器
- 外加電壓:2.5-3.5 kV
EA15 UHV 主要特點(diǎn)
應(yīng)用通用性:EA15 半球形能量分析儀支持廣泛的技術(shù),包括:
- 光電子能譜 (PES)
- 角分辨光電子能譜 (ARPES)
- 離子散射光譜 (ISS)
- 使用 X 射線光電子能譜 (XPS) 進(jìn)行深度剖析
- 映射 XPS、HPS、SemiXPS、LEIS
- 紫外光電子能譜 (UPS)
- 俄歇電子能譜 (AES)
- 半硬 X 射線光電子能譜 (semi HAXPES)
- 低能離子散射光譜 (LEIS)
通用兼容性:適用于任何激發(fā)源,確保輕松適應(yīng)各種實(shí)驗(yàn)設(shè)置。
靈活的探測(cè)器選項(xiàng):從多種探測(cè)器類型中進(jìn)行選擇,以獲得定制性能:
- MCP-CCD 系列
- 7MCD
- DLD (延遲線檢測(cè)器)
最先進(jìn)的軟件:SPECTRIUM 軟件套件提供:
- 完全控制分析儀、激發(fā)源、真空系統(tǒng)和機(jī)械手。
- 數(shù)據(jù)采集、映射和 ARPES 功能。
- 控制機(jī)械手溫度,實(shí)現(xiàn)精確的熱實(shí)驗(yàn)。
- 快速導(dǎo)出到 CasaXPS 等分析軟件。
- 創(chuàng)建自定義測(cè)量配方,包括測(cè)量之間的自動(dòng)化過(guò)程。
- Python 腳本支持高級(jí)自定義工作流。
集成選項(xiàng):EA15 分析儀可以通過(guò)以下方式作:
- SPECTRIUM 軟件
- LabVIEW 可無(wú)縫集成到自定義設(shè)置中