適用于樣品表面高均勻性離子刻蝕的超高真空（UHV）系統。推薦用于表征技術（如透射電子顯微鏡 TEM）樣品制備。
系統特點
- 全電動二維操控器，配備快速操作的自動快門和集成法拉第杯
- 操控器配備高效水冷系統，確保在工藝過程中溫度穩定
- 可適配多種盤式樣品夾具，支持最大至6英寸樣品
- 支持無柵/有柵、射頻（RF）/直流（DC）離子源
- 專用軟件與人機界面設備，用于控制與監控工藝流程及全部組件
- 內部防護襯里/屏蔽裝置
- 底部法蘭接口，可用于如電子束蒸發器等設備
- 結構設計便于擴展以適配傳輸系統
- 前開門設計，便于進入處理腔體
