沉積過程控制器 DPC10
用于沉積過程控制的新型電子單元。同時作兩個獨立的離子源/腔室。
DPC10 沉積過程控制器是一種先進且完整的電子設備，專為物理氣相沉積過程控制而設計。DPC10 監測和控制薄膜沉積的速率和厚度。沉積的速率和厚度是根據放置在工藝室中的石英的頻率變化計算得出的。用戶編程的設備可以精確且可重復的方式控制沉積過程。
描述
用戶通過前面板觸摸屏選擇/輸入定義過程的參數與設備進行交互。該設備執行用戶使用圖形編輯器創建的任何配方。?此外，DPC10 可與任何電壓控制沉積源電源（通過模擬接口）配合使用，并可以控制襯底加熱過程。
整個系統包括一個 DPC10 主電子單元、一個真空計和每個石英晶體的 TM13/14 厚度監測器。
技術數據
| 電源電壓 | 100-240 VAC，50/60 Hz（最大功耗 43 W） |
| 輸入 | 2 個模擬輸入 （0-10V） 12 個數字輸入 |
| 輸出 | 6 個模擬輸出 （0-10V） 16 個數字輸出 |
| 支持的厚度監測器 | TM13：0.1 赫茲 |TM14：0.01 赫茲 |
| 厚度 | 0 – 9999000 ? |
| 率 | 0 – 9999 ?/秒 |
| 頻率范圍 | 2-6 兆赫 |
| 厚度分辨率 | TM13： 0.1 ? |TM14： 0.01 ? |
| 速率分辨率 | TM13：0.1 ?/s |TM14： 0.01 ?/秒 |
| 頻率穩定性 | TM13：0.5 頁/分鐘 |TM14：0.5 ppm |
| 工具系數 | 1 – 400% |
| 測量單位 | ?， k?， nm |
| 測量周期 | 100 毫秒 – 2 秒（取決于 TM 類型） |
| 快門控制 | 手動， 時間， 厚度 |
| 快門時間 | 1 – 1000000 秒 |
| 支持的有源儀表 | CTR90、TTR91、TTR211、PTR225、PKR251/360/361、PCR280、TPR280/281、PTR90、 ITR90、ITR100、Baratron、模擬輸入、PG105、ATMION、IKR360/361 |
| 測量單位 | mbar， Pa， Torr， Psia |
| 通信接口 | RS232/485，以太網 |
| 用戶界面 | 帶觸摸屏的 7 英寸 TFT 顯示屏 |
| 界面語言 | 英語 |
| 尺寸 | 212.6 x 128.4 x 266.1 毫米（寬 x 高 x 深） |
| 重量（大約） | 2.1 千克 |
特征
- 專為沉積過程自動化而設計
- 兩個獨立的進程循環
- 易于作的配方編輯器，帶有圖形界面
- 適用于任何電壓控制（通過模擬接口）沉積源電源
- 控制蒸發速率和厚度
- 控制基板加熱過程
- 配備快速CPU和7英寸觸摸屏顯示器
- 常用材料的收藏夾列表
- 2D 實時圖表模塊
