TPD/TDS 系統
獨立的 UHV 裝置，用于測量超薄膜的吸附/解吸，能夠在較寬的溫度范圍內進行高精度溫度控制。
特征
? 極限壓力 1×10-9毫巴
– TPD/TDS腔室，帶有快速PTS樣品架裝載系統
– 專門設計的錐形采樣端件
– 在很寬的溫度范圍內（-170°C至1200°C）
進行高精度的溫度控制 – 用于TDS
的計算機控制的數據采集和處理軟件 – 用于兩個PTS樣品架
的負載鎖室 – 從負載鎖到TPD腔室的可靠和快速的線性傳輸系統
選項
提供許多升級選項，例如：
– 額外的運動軸和機械手
的全電動化 – 可以通過精確的PLC壓力控制，將壓力范圍從UHV擴展到1個大氣壓
– 氣體計量系統（手動或精確使用PLC控制）
– 溶劑計量系統
– 專用于在腐蝕性環境中
工作的樣品架 – 加熱和LN2負載鎖
的冷卻選項 ? 用于樣品制備
的專用腔室 ? 用于不同質量范圍的殘留氣體分析儀
