MOKE 系統
UHV 系統，用于超薄磁膜和多層的原位實時磁光克爾效應研究。
它旨在研究偏振光通過受磁場影響的樣品材料的反射。
特征
- 極限壓力范圍 10-10毫巴在 150 °C 下烘烤后
- 磁極垂直于樣品布置
- 磁極之間的磁場 0.25T
- 用于旗形樣品架的?4 軸 UHV 樣品機械手
- 樣品加熱至 800 °C?&?使用 LN 進行冷卻2
- MOKE 腔室的光學系統（調制器、偏振器、光電探測器、激光）
- 整個腔室及設備可安裝在定位臺上
- 真空手提箱，便于樣品運輸
- 可以在一個帶蒸發源的腔室中使用
- 可以與傳輸系統連接
