標(biāo)準(zhǔn) PES 系統(tǒng)
用于 UHV 環(huán)境中光電子能譜實(shí)驗(yàn)的分析系統(tǒng)，具有可控的樣品溫度。
獨(dú)立系統(tǒng)適用于分析各種納米材料。該系統(tǒng)包括一個(gè)分析室和一個(gè)負(fù)載鎖定室，用于輕松快速地加載基板。泵送系統(tǒng)與分析室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可將極限壓力降至 10-11mbar，具體取決于泵的配置。
特征
- 滿足?XPS / UPS / ARPES / AES /?EELS?/ ISS / IPES / LEIPS?技術(shù)領(lǐng)域大多數(shù)研究需求的標(biāo)準(zhǔn)解決方案
- 實(shí)驗(yàn)程序的完全自動(dòng)化?
- 垂直或水平樣品方向?
- 半球形能量分析儀 EA15 UHV?及設(shè)備?
- 高功率雙陽(yáng)極?X 射線源，帶光柵 – AlKα & AgLα，帶電源
- 高功率雙陽(yáng)極，非單色X射線源 –?AlKα和MgKα，帶電源
- 帶電源的?UV 源
- 帶電源的泛洪源
- 用于深度剖析或清潔的離子源
- 電動(dòng)或手動(dòng)?4-6 軸機(jī)械手，帶接收站能夠?qū)崿F(xiàn)從LHe/LN 系列2可承受高達(dá)?1400°C?的高溫
- 不同的樣品架尺寸：從 10×10 mm 到 1 英寸
- 分析室直徑 ? 310 mm
- 極限壓力降至 10-11mbar，具體取決于泵的配置
- 泵系統(tǒng)（基于備用泵、TMP、離子泵和 TSP）
- 帶設(shè)備的真空計(jì)
- 樣品架的?Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng)，從負(fù)載鎖到分析室
- Viewports – 觀察窗口
- Bakeout 系統(tǒng)?
- 系統(tǒng)的可調(diào)節(jié)剛性主機(jī)架?
- 帶電子單元的 19 英寸機(jī)柜
- 由?Spectrium 軟件和?PLC 單元完全控制的分析過(guò)程和設(shè)備
描述
分析室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來(lái)的設(shè)備，包括：
- 帶設(shè)備的半球形能量分析儀 /
- 帶電源的 X 射線雙陽(yáng)極單色源，
- 帶電源的 X 射線雙陽(yáng)極非單色源，
- 帶電源的 UV 單色光源，
- 帶電源的紫外線源，
- 帶電源的泛洪源，
- 帶電源的電子源，
- 帶電源的離子源，用于深度剖析或清潔，
- 帶電源的氣簇離子源，
- 樣品調(diào)節(jié)器具有較寬的溫度范圍（從 LHe/LN2高達(dá) 1400°C）、
- 泵組（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP，具有大面積LN2裹尸布）、
- 帶設(shè)備的真空計(jì)，
- 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口，例如從負(fù)載鎖到分析室，
- 樣品架的 Load Lock 室，
- LEED 設(shè)備，
- IPES / LEIPS 設(shè)備，
- viewports – 觀察窗口，
- 殘余氣體分析儀。
最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。?
泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級(jí)真空泵、離子泵、渦輪泵或具有大面積 LN 的鈦升華泵2護(hù)罩，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇，以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。?
如果需要，該系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過(guò)徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺(tái)組合和集成。?
Spectrium 分析控制軟件允許半球形能量分析儀和各種類型的源集成和完美協(xié)作，從而實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)測(cè)量控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于?Tango 開(kāi)源設(shè)備集成新的附加組件。?
選項(xiàng)
- 帶電源的?UV 單色光源
- LEED?設(shè)備
- 帶設(shè)備的?IPES / LEIPS
- 帶電源的電子源
- 帶電源的氣體簇離子源
- 儲(chǔ)藏室
- 徑向分布室或傳輸隧道
- 真空手提箱（運(yùn)輸箱），在負(fù)載鎖室
中帶端口 - 殘余氣體分析儀
- 高溫計(jì)?
技術(shù)
光電子能譜 （PES）?是一種實(shí)驗(yàn)技術(shù)，也是電子能譜的主要變體。該方法基于光電現(xiàn)象和對(duì)光電子動(dòng)能分布的分析。發(fā)射的能量是表面樣品受到電磁輻射激發(fā)的結(jié)果。?
PES 技術(shù)是最常用的表面測(cè)試和薄層檢查方法。它提供的信息包括：定量組成、原子鍵特性、層厚。基本過(guò)程（光效應(yīng)）測(cè)量光子照射物質(zhì)后產(chǎn)生的光電子發(fā)射。?
包括分析 PES 技術(shù)：?
- XPS?– X 射線光電子能譜?
- HAXPES?– 硬 X 射線光譜?
- UPS?– 紫外光電子能譜?
- ARPES?– 角度分辨光電子能譜?
其他技術(shù)：?
- IPES?– 逆光電子發(fā)光光譜?
- LEIPS?– 低能量逆光電子能譜?
- AES?– 俄歇電子能譜?
- EELS?– 電子能量損失譜?
- ISS?– 離子散射光譜?
