標準 HPPES 系統
PREVAC 標準 HPPES 系統用于 2×10 壓力范圍內的光電子能譜實驗-9mbar – 50 mbar，樣品溫度可控。獨立系統適用于在 UHV 或環境壓力條件下分析各種納米材料。
該系統包括一個分析室和一個負載鎖定室，可方便快速地加載樣品。它提供完整的 PLC 保護和軟件控制，包括機器狀態的清晰可視化、數據采集以及所有集成設備、電源和輔助設備的控制。
特征
- 滿足以下領域大多數研究需求的標準解決方案：
– XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS?技術 |UHV 條件
–?HPXPS / APXPS / APUPS?技術 |環境壓力條件 - 實驗程序的完全自動化
- 回填配置
- 高壓半球形能量分析儀 EA15-HP5 / EA15-HP50?及設備
- 高壓、高功率雙陽極?X 射線源，帶單色器?– AlKα & AgLα，帶電源
- 高壓、高功率雙陽極、非單色?X 射線源?– AlKα 和 MgKα，帶電源
- 帶電源的?UV 源
- 帶電源的泛洪源
- 用于深度剖析或清潔的離子源
- 電動或手動?4-6 軸機械手，帶有接收站，溫度LHe/LN 系列2最高?1400°C
- 不同的樣品架尺寸：從 10×10 mm 到 2 英寸
- 分析室直徑 310 毫米
- 極限壓力降至 10-9mbar，具體取決于泵的配置
- 泵送系統（基于備用泵，TMP和TSP帶有冷凍盾牌）
- 全自動氣體加樣設置
- 帶設備的真空計
- 樣品架的?Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統，從負載鎖到分析室
- 視區 – 觀察窗口，帶攝像機
- Bakeout 系統
- 系統的可調節剛性主機架
- 帶電子單元的 19 英寸機柜
- 由?Spectrium 軟件和?PLC 單元完全控制的分析過程和設備
描述
分析室配有 UHV 標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括：
- 帶設備的高壓半球能量分析儀，
- 帶電源的高壓 X 射線雙陽極單色源，
- 帶電源的高壓 X 射線雙陽極非單色源，
- 帶電源的 UV 單色光源，
- 帶電源的紫外線源，
- 帶電源的泛洪源，
- 帶電源的電子源，
- 帶電源的離子源，用于深度剖析或清潔，
- 帶電源的氣簇離子源，
- 樣品調節器具有較寬的溫度范圍（從 LHe/LN2高達 1400°C）、
- 泵組（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP，具有大面積LN2裹尸布）、
- 帶設備的真空計，
- 用于線性傳輸系統的入口，例如從負載鎖到分析室，
- 加載樣品架的 Lock 室，
- viewports – 觀察窗口，
- 殘余氣體分析儀。
最終的設計和功能取決于系統配置。
泵送系統是不同類型泵的組合，例如前級真空泵、離子泵、渦輪泵或具有大面積 LN 的鈦升華泵2護罩，根據特定應用需求單獨選擇，以實現最佳泵送性能。
如果需要，系統的模塊化設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺進行組合和集成。
Spectrium 分析控制軟件允許半球形能量分析儀和各種類型的源集成和完美協作，從而實現輕松的配方編寫、自動測量控制和廣泛的數據記錄。允許基于?Tango 開源設備集成新的附加組件。
選項
- 帶機械手的?HP 壓力傳感器
- 全自動混合室和 4 種氣體加樣設置
- 帶電源的?UV 單色光源
- 帶電源的電子源
- 帶電源的氣體簇離子源
- 儲藏室
- 徑向分布室或傳輸隧道
- 真空手提箱（運輸箱），在負載鎖室中帶端口
- 殘余氣體分析儀
- 高溫計
技術
- 帶機械手的?HP 壓力傳感器
- 全自動混合室和 4 種氣體加樣設置
- 帶電源的?UV 單色光源
- 帶電源的電子源
- 帶電源的氣體簇離子源
- 儲藏室
- 徑向分布室或傳輸隧道
- 真空手提箱（運輸箱），在負載鎖室中帶端口
- 殘余氣體分析儀
- 高溫計
