離子源 IS 40F1
緊湊、易于使用的萃取式離子源，具有電子束聚焦功能。它主要用于樣品表面清潔，但聚焦功能提供了更多可能性。例如：它允許在相同的樣品距離上覆蓋不同的樣品區域，或者即使無法使樣品源更靠近樣品，也可以使用離子源。該源產生 >200 μA/cm2（氬氣）的離子電流，具有高斯光束輪廓。離子槍插入長度可根據具體要求進行調整（143 mm – 386 mm，可根據要求提供其他長度）。
技術數據
| 安裝法蘭 | DN 40CF （不可旋轉） |
| 能量范圍 | 0.12 keV – 5 keV |
| 電流密度 | > 200 μA/cm2（距離 30 mm） |
| 盾 | 銅、不銹鋼（用于反應氣體） |
| 陰極類型 | 氧化釔涂層銥絲 |
| 插入長度 | 最小 143 mm，其他可根據要求提供 外徑：最大 37 mm |
| FWHM （英語） | 取決于離子能量和工作距離 （例如，距離 60 mm 時為 1.4 mm，距離 150 mm 時為 3 mm） |
| 典型工作距離 | 30 – 250 毫米 |
| 烘烤溫度 | 最高 250°C |
| 工作壓力 | 10-5– 10-6毫巴 |
特征
- 光束聚焦功能 – 在 30 mm-150 mm 之間的所有樣品距離上，光束濃度可能達到 3 mm
- 較遠距離處的高光束強度（由于聚焦功能）
- 使用惰性氣體 （Ar） 和反應氣體 （O作2、 H2，使用壽命縮短的碳氫化合物）
- 高離子束流
- 使用壽命長
- 高穩定性
選項
- 氣體加注系統
- 定制插入長度
- 線性偏移
