離子源 IS 40E1
離子源 IS 40E1 – 雙鏡頭、聚焦、萃取式離子槍。適用于深度剖深 （Ar），可與 O 等反應(yīng)性氣體配合使用2、 H2、碳?xì)浠衔锖退卸栊詺怏w。源能夠在建議的工作距離下柵格化 10 mm x 10 mm 的表面區(qū)域。它特別適用于 XPS、ISS 和 SIMS 中的深度剖析。該離子源還可用于樣品表面清潔。
技術(shù)數(shù)據(jù)
| 安裝法蘭 | DN 40CF （可旋轉(zhuǎn)） |
| 氣體 | Ar 和反應(yīng)氣體 （O2、 H2使用壽命縮短的碳?xì)浠衔铮?/span> |
| 能量范圍 | 0.15 keV – 5 keV |
| 掃描區(qū)域 | 10 mm x 10 mm（工作距離為 23 mm） |
| 電流密度 | 高達(dá) 4 mA / cm2（距離 23 mm） |
| 束流 | > 1 μA（距離 23 mm） |
| 陰極類型 | 氧化釔涂層銥絲 |
| 小錐角 | 50° |
| 插入長度 | 163 mm （標(biāo)準(zhǔn)）， 外徑： 34 mm |
| FWHM （英語） | 取決于工作距離 （例如，距離為 23 mm 時< 150 μm） |
| 典型工作距離 | 23 – 120 毫米 |
| 烘烤溫度 | 250 °攝氏度 |
| 工作壓力 | 10-8mbar（最大束流） |
特征
- 特殊配置的鼻錐
- 使用惰性氣體 （Ar） 和反應(yīng)氣體 （O作2、 H2，使用壽命縮短的碳?xì)浠衔铮?/span>
- 連續(xù)可變光斑尺寸
- 極其均勻的凹坑/光束輪廓
- 側(cè)可更換燈絲
- UHV 進(jìn)氣口
- 在腔室中保持 UHV 條件
- 集成掃描和偏轉(zhuǎn)裝置
- 入射電子束角校正（由 IS40-PS 電源提供）
