帶光柵 RMC50 的 X 射線源
基于橢球石英晶體，并根據(jù) X 射線衍射布拉格定律運(yùn)行。水晶鏡安裝在專門設(shè)計(jì)的獨(dú)立縮回、俯仰、滾動(dòng)機(jī)構(gòu)上，以精確調(diào)整工作位置和兩個(gè)由 PID 調(diào)節(jié)器控制的鹵素加熱器。
描述
該光柵具有直徑為 500 毫米的羅蘭圓，可實(shí)現(xiàn)高 X 射線能量分辨率，設(shè)計(jì)緊湊，帶有差分泵浦端口，并且可以安裝可選的聚合物鍍鋁窗口以防止濺射。
基于重新設(shè)計(jì)的雙陽(yáng)極源的 X 射線源已安裝在三度運(yùn)動(dòng)高精度機(jī)械手上。Source 有兩種作模式 – 高達(dá) 600W 的高功率，以及用于高空間/能量分辨率測(cè)量的小光斑。
提供高壓版本：
RMC50 HP5，工作壓力范圍高達(dá) 5mbarRMC50
HP50 工作壓力范圍高達(dá) 50mbar
技術(shù)數(shù)據(jù)
| 安裝法蘭 | 公稱直徑 100 CF |
| 晶體面積 | 200 毫米 x 100 毫米 |
| 羅蘭圓直徑 | 500 毫米 |
| 腔室直徑 | 310 毫米 |
| 腔室端口長(zhǎng)度 | 220 毫米 |
| X 射線源陽(yáng)極 | 雙陽(yáng)極 Al/Ag（標(biāo)準(zhǔn)） |
| 模式 | 正常（非聚焦）： 1 mm x 4 mm 小光斑（聚焦）： 1 mm x 2 mm |
| 電壓 | 最高 15 kV |
| 權(quán)力 | 鋁： 200 W（對(duì)焦）、450 W（非對(duì)焦） Ag： 300 W（對(duì)焦）、600 W（非對(duì)焦） |
| 縱器 X/Y/Z 范圍 | ± 6.5 毫米 / ± 6.5 毫米 / 25 毫米 |
| 差速泵送 | 是的 |
| 晶體加熱 | 不 |
| 快門 | 選擇 |
| 烘烤溫度 | 最高 150 °C |
| 重量（大約） | 65 千克 |
| 工作壓力 | 超高電壓 -> 5×10-6毫巴 HP5： 超高真空 – 5毫巴 HP5： 超高真空 – 50 毫巴 |
特征
- 兩種陽(yáng)極類型 （Al/Ag） 輻射與一種單晶單色化
- 高光子強(qiáng)度，線寬為 < 0.2 eV
- 出色的能量分辨率
- 消除了衛(wèi)星線和幽靈線
- 減少背景
- 減少樣品失真
- 晶體溫度穩(wěn)定性
- 小光斑工作模式
