沉積處理室設(shè)計(jì)用于各種應(yīng)用，以涂覆薄膜、開發(fā)新材料或創(chuàng)造技術(shù)。
它們通常具有許多UHV端口(各種標(biāo)準(zhǔn)尺寸),用于連接各種類型的沉積和測(cè)量?jī)x器。它們通常設(shè)計(jì)用于1×10之間的基礎(chǔ)壓力-6毫巴和1×10-11毫巴。根據(jù)需要，由高導(dǎo)磁合金(內(nèi)部硼< 0.5μT)或不銹鋼制成。我們的標(biāo)準(zhǔn)多功能分析室提供了足夠的端口和設(shè)施來滿足大多數(shù)當(dāng)前和未來的要求，但我們也很樂意根據(jù)您的個(gè)人規(guī)格進(jìn)行制造。
沉積室通常配備有:
不同類型的沉積源和儀器，包括電子束蒸發(fā)器、瀉流池、磁控管源、熱蒸發(fā)源、石英振蕩器等；
精密機(jī)械手，
泵系統(tǒng)(TMP、帶低溫冷卻的TSP、離子)，
視窗，
壓力計(jì)。
處理室可以配備半/全LN2
冷卻護(hù)罩(低溫護(hù)罩)、防止污染的附加護(hù)罩(可更換襯管)和防止交叉污染的源隔離(低溫面板)。
使用專門設(shè)計(jì)的起重小車，可以更換處理室的底部集群法蘭。
一個(gè)多功能推車可用于更換底部法蘭、低溫板和襯墊(便于清潔)。由于可以用源代替底部法蘭，一個(gè)沉積室可以適用于不同的應(yīng)用。
任何真空室的材料選擇和基本設(shè)計(jì)都因其所需的具體應(yīng)用而異。例如，對(duì)極限室底壓力的要求可以在甚至優(yōu)于10的范圍內(nèi)變化-10?毫巴。
物理尺寸可以是直徑從幾毫米到幾米的任何東西。一個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)可以規(guī)定一個(gè)簡(jiǎn)單的配置，如四路交叉。另一方面，復(fù)雜、通用的分析室可能需要50個(gè)或更多的端口，這些端口朝向許多不同的內(nèi)部焦點(diǎn)并處于許多不同的高度。
我們根據(jù)您的具體要求制造定制的真空室。我們可以處理您的圖紙，或者根據(jù)您的指示創(chuàng)建完整的3D設(shè)計(jì)圖。我們的團(tuán)隊(duì)訓(xùn)練有素的工程人員使用最新的CAD技術(shù)室和系統(tǒng)設(shè)計(jì)。
我們?cè)谧钚碌臋C(jī)械加工和精加工技術(shù)上投入了大量資金，可以建造大型或小型腔室，這些腔室具有任意數(shù)量的位于不同角度的端口，并且適合任何操作基礎(chǔ)壓力要求。
我們的機(jī)械車間員工在加工、焊接和連接所有類型的高壓和UHV兼容材料方面技術(shù)高超，這些材料包括:不銹鋼、OFHC銅、青銅、macor、陶瓷、特氟隆、鈦、鋁、鉬、鉭、mu-metal、vespel和inconel。我們還用鉭、鉬和不銹鋼制造隔熱罩和反射器。
用于標(biāo)準(zhǔn)樣品制備技術(shù)、薄膜生長(zhǎng)、濺射、退火和原位表征的高級(jí)制備技術(shù)。
它們通常具有許多UHV端口(各種標(biāo)準(zhǔn)尺寸),用于連接各種類型的表面處理技術(shù)。它們通常設(shè)計(jì)用于1×10之間的基礎(chǔ)壓力-10毫巴和1×10-11毫巴。我們的標(biāo)準(zhǔn)多功能制備室提供了足夠的端口和設(shè)施，可滿足大多數(shù)當(dāng)前和未來的要求，但我們也很樂意根據(jù)您的個(gè)人規(guī)格進(jìn)行制造。
準(zhǔn)備室通常配備有:
精密機(jī)械手，
泵系統(tǒng)和壓力計(jì)，
電子束蒸發(fā)器和噴射室，
石英振蕩器，
不同類型的分析儀，
用于表面清潔的離子源，
視窗。
