Nonsequitur Technologies 1420 20kV離子槍

美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍

美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍

美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍特點:

  • 光斑尺寸可調 ≥ 5um,用于空間定義的濺射或注入

  • 發射調節轟擊提供穩定的離子電流

  • 連續可變光束能量 5kV 至 20kV

  • 用于光束掃描和像散校正的雙八極桿

  • 用于減小光斑尺寸的物鏡前掃描

  • 無需將細絲直接連接到樣品視線,以避免樣品污染

  • 客戶可更換的細絲和光束修整孔徑

  • 雙線材可在線材使用壽命結束時提供運行備份

  • 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料

  • 差速泵送,以最大限度地減少主室氣體負荷

  • 在惰性氣體和氮氣范圍內運行

美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍可選規格:

  • 釷涂層銥絲,用于氧氣操作

  • 可變孔徑,光斑尺寸低至 1 微米

  • 用于快速光束脈沖的盲板

  • 堿金屬源,用于處理 Cs、Li、Na、K 等

  • 源烘箱,允許產生可蒸發材料的離子

  • 帶集成 Wien 濾波器的源

美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍性能:

模式
光斑尺寸 (μM FWHM)
束流 (μA)
電流密度 (A/cm2)
Small Spot
8
0.5
1
Medium Spot
15
5
2.8
Large Spot
40
20
1.5

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