美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍
美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍特點:
光斑尺寸可調 ≥ 5um,用于空間定義的濺射或注入
發射調節轟擊提供穩定的離子電流
連續可變光束能量 5kV 至 20kV
用于光束掃描和像散校正的雙八極桿
用于減小光斑尺寸的物鏡前掃描
無需將細絲直接連接到樣品視線,以避免樣品污染
客戶可更換的細絲和光束修整孔徑
雙線材可在線材使用壽命結束時提供運行備份
制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料
差速泵送,以最大限度地減少主室氣體負荷
在惰性氣體和氮氣范圍內運行
美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍可選規格:
釷涂層銥絲,用于氧氣操作
可變孔徑,光斑尺寸低至 1 微米
用于快速光束脈沖的盲板
堿金屬源,用于處理 Cs、Li、Na、K 等
源烘箱,允許產生可蒸發材料的離子
帶集成 Wien 濾波器的源
美國Nonsequitur Technologies Model 1420 20kV離子槍性能:
模式 | 光斑尺寸 (μM FWHM) | 束流 (μA) | 電流密度 (A/cm2) |
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Small Spot | 8 | 0.5 | 1 |
Medium Spot | 15 | 5 | 2.8 |
Large Spot | 40 | 20 | 1.5 |