描述

可聚焦電子束，光斑尺寸小至 100 μm

1 keV 至 30 keV

應用：

• 一般真空物理學
• 輻射研究
• 地表轟炸
• 半導體研究
• X 射線生成
• 血漿激發(fā)
• 熒光研究
• 表面物理研究

功能/選項：

• 光斑尺寸低至 100 μm
• 光束電流高達 5 mA
• 靜磁聚焦
• 可選的靜磁光束整形
• 靜磁偏轉(zhuǎn)
• 脈沖能力
• 運行期間的內(nèi)部對準
• 用戶可更換的點火裝置

能量范圍：1 keV 至 30 keV
光束電流：10 μA 至 5 mA*
光斑尺寸：100 μm 至 10 mm
安裝：2.75 英寸 （23/4） CF
*提供更高電流的選項。

EMG-4210 電子槍與匹配的 EGPS-4210 電源是一個完整的子系統(tǒng)，可連接到用戶的真空系統(tǒng)。它可以在廣泛的能量、電流和功率范圍內(nèi)傳輸電子，工作距離為 50 mm 至 1000 mm。磁性定心和可選的整形線圈提供額外的電子束控制，允許用戶偏轉(zhuǎn)和塑造電子束。應用包括空間材料測試、輻射研究、半導體研究、X 射線生成和等離子體激發(fā)。

電子槍系統(tǒng)使用單晶六硼化鑭 （LaB₆） 陰極產(chǎn)生高能、可聚焦的小光斑電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內(nèi)獨立調(diào)節(jié)，能量范圍為 1 keV 至 30 keV，電流范圍為 10 μA 至 5 mA。電子束可以通過控制網(wǎng)格的輸入信號進行脈沖傳輸。

噴槍的可調(diào)節(jié)光學元件可以適應不同的發(fā)散和一系列工作距離，適用于各種應用。磁性聚焦透鏡可以將光斑尺寸從 10 mm 變?yōu)?100 μm。磁性定心和可選的整形線圈提供額外的電子束控制，允許用戶偏轉(zhuǎn)和塑造電子束。整形通常會產(chǎn)生橢圓梁，其中兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。此外，陰極到陽極的間距可在內(nèi)部調(diào)節(jié)以改變磁長。

該噴槍具有可調(diào)節(jié)的陰極饋通組件，允許點火裝置相對于陽極和色譜柱進行機械對準。這種對準可以在噴槍在光束打開的情況下運行時實時完成。

其他信息：