描述

中等能量， 高級光學， 小光斑尺寸電子束

1 keV 至 30 keV

應用：

• 表面物理學
• 真空物理實驗

功能/選項：

• 全新模塊化設計
• 支持照片發射（View Port 位于用戶外部光源的位置）
• 運行時的內部對準
• 四極桿對準
• 八極桿偏轉 / 光柵 / 柱頭
• 聚焦鏡頭
• 光束消隱
• 直列法拉第杯
• 內部磁屏蔽
• 差速泵送
• 小光斑低至 25 μm
• 束流 1 nA 至 10 uA
• UHV 兼容 / 可烘烤
• 電腦/遙控器
• 用戶可更換的點火裝置

能量范圍：1 keV 至 30 keV
光束電流：1 nA 至 10 μA
光斑尺寸：25 μm 至 500 μm
安裝：4.5“ （41/2”） CF

EMG-4193 電子槍帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學裝置，是一個完整的子系統，可隨時連接到用戶的真空系統。可選的光發射可以通過系統的獨特視窗聚焦用戶提供的電磁輻射源來實現。EMG-4193 可以傳輸能量為 1 keV 至 30 keV、電流為 1 nA 至 10 μA 的電子。該槍使用 （LaB₆） 陰極提供低至 25 μm 的小光斑，使用壽命長達數千小時。光束也可以光柵化以對目標進行成像。應用包括表面物理學和真空物理學實驗。

該噴槍的可調節光學元件包括兩個聚焦透鏡以及三個四極對準元件和兩個八極偏轉元件。該噴槍還具有可調節的饋入組件，允許在噴槍運行時對射擊裝置進行機械對準。

該槍有一個空白元件，可將電子束轉移到直列法拉第杯中。該系統用于測量塔中的光束電流。下料器提供了一種在噴槍運行時切斷光束的方法，也可用于脈沖。

其他信息：