Kimball 離子槍系統 離子源 表面物理 空間物理與等離子體物理 真空物理實驗 電荷中和 探測器校準 二次離子質譜 分子束外延 離子注入

Kimball Physics 提供的離子槍(或稱離子源)廣泛應用于以下領域:


⚙️ 工作范圍(Range of Operation)

  • 能量范圍:10 eV ~ 20 keV

  • 束流范圍:1 nA ~ 2 μA

  • 束斑尺寸:500 μm ~ 25 mm


🔄 多功能性(Versatility)

  • 靈活控制器:通過光纖獨立控制和測量多個功能,包括:

    • 離子能量

    • 離子源功率

    • 電子能量

    • 場控(Field Control)

    • 束流提?。‥xtract)

    • 聚焦控制(Focus)

    • X-Y 偏轉與掃描(Deflection / Rastering)

    • 電子電流控制等

  • 離子種類選擇:可選堿金屬離子源(如 Li?、Na?、K? 等),以生成不同種類的離子束。


📈 性能表現(Performance)

  • 束流穩定性

    • 使用 ECC(發射電流控制)時:±1.0% / 小時

    • 不使用 ECC 的堿金屬源:±10% / 小時(預熱后)

  • 能量穩定性

    • ±0.01% / 小時

    • ±0.02% / 8 小時(滿功率輸出下)


🛠️ 操作能力(Operational Capabilities)

  • 快速電容式束流脈沖雙柵格脈沖模式

  • 電子束偏轉與掃描功能

  • 槍體集成法拉第杯(用于實時束流測量


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