Harrick 低溫反應室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面的應用
美國Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統(tǒng)，原位紅外反應池，漫反射反應池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應池，紅外附件，是第一個普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進行分析
