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CHC-CHA-3低溫反應室
Harrick CHC-CHA-3低溫反應室, CHC-VUV-3 漫反射低溫反應室，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應
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