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              Harrick光譜儀ATR高溫高壓反應池
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              標簽: 漫反射裝置

              Harrick 低溫反應室 CHC-CHA-5,CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C(真空下),非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面的應用

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              銷售代表

              關于Harrick

              Harrick Scientific制造高質量的光譜設備和光學元件。產品有:多重反射ATR、可拆卸液體電池、鏡面反射探頭、ATR微量采樣器等。

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