Harrick 低溫反應室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面的應用
美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應
