DAEILSYSTEMS DVIA-MO系列 主動隔振光學平臺 超剛性光學平臺 光子學和激光 全息攝影 光譜學 DVIA-MO1000 DVIA-MO3000 DVIA-MO6000 DVIA-M

提供高度先進的隔振

DVIA-MO 系列是 DVIA-M 主動隔振系統與高性能光學桌面的組合,為需要低于 5 Hz 的低頻隔振光子學、激光和光譜學提供絕對的振動控制環境。

亞赫茲隔振性能

DVIA-MO 系列嵌入了最先進的主動振動控制算法,可在六個自由度下提供 1 Hz 時 50% – 80% 的隔振效果,在 2 Hz 時提供 90% 的隔振效果

超剛性光學平臺

我們的光學平臺經久耐用,設計得盡可能堅硬,以最大限度地減少安裝在光學平臺上的現有光學元件之間的相對運動。

DVIA-MO-超剛性光學工作臺

反饋和饋送控制算法

DVIA 系列使用反饋控制算法連續檢測干擾隔離表面的振動,并立即做出反應以實時減少振動。DVIA 系列采用前饋控制算法,在地板振動傳遞到安裝在主動隔振系統上的設備之前,提前過濾掉地板振動

反饋和饋送 <br />控制算法

所有六個自由度的主動隔振

DVIA 系列控制三個平移度(X、Y 和 Z)和三個旋轉度(俯仰、滾動和偏航)的振動。

DVIA-M-絕對振動控制全六自由度

1 Hz 時隔振 50 – 80%,≥ Hz時隔振≥90%。

DVIA-MO-性能

應用

光子學和激光

全息攝影

光譜學

納米級分辨率顯微復制

任何需要在 1 Hz 時實現 90% 隔振的應用


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