產(chǎn)品概述
Beam Imaging Solutions (BIS)?推出新型 DCIS-100 離子源組件。該離子源為 Colutron 熱陰極放電類型,與?G-1 型和 G-2 型離子槍系統(tǒng)配合使用。該離子源類似于 Colutron 氮化硼離子源(100 型)設(shè)計(jì),但由高度耐用的氧化鋁陶瓷 (Al2O3).與氮化硼源不同,DCIS-100 的初始放氣時(shí)間以分鐘為單位,而不是由于氮化硼的吸濕性而以小時(shí)為單位。氧化鋁的機(jī)械耐久性也比氮化硼更高。DCIS-100 也比 Colutron 100-Q 型石英離子源更耐用,并且能夠?yàn)楦唠娏鞯碾x子束提供更高的溫度和陽極放電電流。現(xiàn)在可以在放電室中產(chǎn)生軸向磁場(chǎng)的新型 Colutron 型散熱器上市。
離子源可作為完整組件(100 型)提供,帶有離子源(DCIS-101 型)、插座法蘭 (DCIS-102)、氣三通和固體電荷座。DCIS-101 離子源也可單獨(dú)提供,可插入標(biāo)準(zhǔn) Colutron 插座法蘭。也可提供帶柱溫箱的離子源。該烘箱用于蒸發(fā)高達(dá) 2000C 的固體材料。
傳統(tǒng)的 Colutron 100-Q 型離子源和備件現(xiàn)在也可從 Beam Imaging Solutions 獲得。許多部件,如細(xì)絲、陽極、接觸線和源插座法蘭,都可以在傳統(tǒng)的石英和陶瓷版本之間互換。氮化硼版本的零件也可用。